| 主权项 |
2.依据申请专利范围第1项之光学元件,其中光学元 件为 整体性物体。3.依据申请专利范围第1项之光学元 件,其中光学元件包 含一个阵列之球形表面并具有绕射光栅而与每一 球形表面 呈相对关系,以及与其对准。4.依据申请专利范围 第3项之光学元件,其中球形表面阵 列形成于光敏玻璃基质之一个表面上以及绕射光 栅形成于 基质另外一侧之平面性表面上。5.一种制造折射/ 绕射光学元件之方法以产生波前与完美 球面波前非常近似,其包含形成多个球形表面阵列 于光敏 玻璃基质之相对的表面上,其系利用照相平板印刷 过程采 用之光遮罩,去除一个球形表面阵列以形成平面性 表面, 形成一个绕射光栅阵列于平面性表面上,每一绕射 光栅与 元件相对的表面上之球形表面对准以及每一光栅 由连续性 环形阶梯所构成,其距离光栅中心为预先决定之距 离,环 状阶梯是由照相平板印刷以及蚀刻之合并步骤所 形成。6.依据申请专利范围第5项之方法,其中环状 阶梯是藉由 涂覆上光阻蚀刻材料层于玻璃基质之平面性表面 上,光阻 蚀刻材料部份被照射而使该部份为不溶解,去除光 阻蚀刻 材料其余部份以暴露出未遮盖清澈区域于玻璃上, 以及蚀 刻该清澈区域至为预先决定之深度。7.依据申请 专利范围第6项之方法,其中使用于产生球形 表面阵列照相平板印刷法中之光遮罩被使用于形 成蚀刻图 案照相平板印刷法中所采用之光遮罩,因而球形表 面与光 栅对准变为容易。图1为揭示于Bellman等人专利之 光学 元件剖面图。图2为剖面图,显示出依据本发明对 图1光 学元件之改善。图3为依据本发明对图2光学元件 作更进 一步改善之一个单元上视图。图4为图3沿着4-4直 线所 展开之剖面图,其显示出图3之改善。图5A,5B及5C为 断 面图,显示出产生本发明方法之步骤。图6A,6B及6C 为剖 |
