METHOD OF APPLYING A LACQUER FILM SENSITIVE TO UV AND/OR ELECTRON-BEAM RADIATION.

摘要

Les couches de vernis snesibles aux rayons ultraviolets et/ou aux faisceaux d'électrons sont jusqu'à présent appliquées sur un subjectile, pour servir de masque, selon le procédé de dépôt à la tournette ("spin-on"). Dans le procédé selon l'invention, pour l'application d'une couche de vernis sensible aux rayons ultraviolets et/ou aux faisceaux d'électrons, une substance vinylique et un siloxane linéaire ou cyclique sont d'abord vaporisés, puis déposés, à partir de la phase gazeuse, sur le subjectile à masquer. Conformément à un aspect important de l'invention, ces substances comprennent l'octaméthylcyclotétrasiloxane et le trivinylméthylsila ne.