| 摘要 |
<p>Det blir beskrevet en elektrode (11) benyttet i plasma- asslstert kjemisk etslngsprosess som omfatter et Indre element (47) omgitt av et ytre element (45) som defi- nerer en spalte (77) mellom disse, slik at en gass kan strømme gjennom denne. I en foretrukket utførelsesform er det Indre element (47) og det konsentriske ytre element (45) begge syllnderformede og spalten (77) har derfor en ringformet konfigurasjon. Et vertikalt kanalsystem er boret inn l nevnte Indre element (47) og går direkte eller Indirekte Inn l den rlngformede spalten (77).</p> |
