| 摘要 |
<p>En anordning (2) som foretar høyoppløsende tykkelses- metrologi på et tynnfllmsjikt på en skive (24) Innbefatter en kilde til filtrert hvitt lys som danner en kollimert monokromatisk lysstråle (19). Kilden til filtrert hvitt lys innbefatter en halogenlampe (10), en kondensatorlinse (12), en sirkulær blendeåpning (14), en kolllmatorlinse (16) og et smalbånds filterhjul (18). Den kollimerte monokromatiske lysstråle (19) ledes gjennom en stråledeler (60) en andre kollimator- llnse (20), en tredje kolllmatorlinse (22), en sats (38) med små linser slik at den tilsvarende sats med utvalgspunkter (39) på overflaten av skiven (24) blir belyst med fokusert monokromatisk lys. Et refleksjons- mønster dannes ved hvert utvalgspunkt (39) på grunn av koherente samvirkninger i det monokromatiske lys blir reflektert i sklvestrukturen (24). Et bilde av hvert refleksjonsmønster blir reflektert fra overflaten av skiven (24) og rettet inn i en detektorsats (31) for et kamera (30) med ladningskoblet anordning (CCD) Hvert bilde av refleksjonsmønster blir vist på CCD-kameraets detektorsats (31) og oppfanget av CCD-kameraet (30). Hvert oppfanget bilde blir digitalisert av en digitali- ser ingskrets (34) og lagret med datamaskin (36). Datamaskinen (36) vil så sammenligne disse målte refleksjonsdata med referansedata for refleksjon som allerede er lagret for på denne måte å bestemme tykkelsen av tynnfilmsjiktet ved hvert utvalgspunkt (39) på skiven (24).</p> |
