| 主权项 |
1、一种双面对版曝光机，包括：一个显微镜[2]套装在一个固定于台架[12]上的立轴上，可绕轴水平转动和沿轴向上下移动；一个用于曝光的上光源[11]，是由普通电光源形成的平行光源，该光源与显微镜[2]成一固定角度装在同一个立轴上，上下高度可调整且可绕轴水平转动；本发明的特征在于还包括：一个上掩膜版吸盘[3]通过悬臂安装在一个可垂直运动的蜗杆上，该蜗轮蜗杆系统固定在一个可围绕一个固定在台架[12]上的主轴旋转的支架上，吸盘[3]为环状柱形空腔结构，上下端面镜面抛光，下端面有对称分布的小气群[13]，侧面安装气嘴[14]使空腔与抽气泵连通，抽气泵通过气嘴抽气，使空腔[15]产生负压将上掩膜版[4]通过气孔群[13]吸附固定在吸盘[3]上并随之绕轴旋转和上下移动；一个硅片吸盘[6]，为圆柱空腔结构，上端面镜面抛光并有小气孔群[16]，侧面安装气嘴[17]使空腔与抽气泵连通。硅片[5]靠抽气泵抽气使空腔内产生负压吸附在吸盘[6]的上端面，吸盘[6]安装在台架[12]上并可沿x或y方向水平微动和水平自旋；一个与上掩膜版吸盘[3]结构相同的下掩膜版吸盘[8]，上端面镜面抛光并有对称分布的气孔群，吸盘[8]安装在台架上，可水平x、y方向微动和自旋；一个下光源档板[9]和下光源[10]，档板[9]与上光源[11]同轴安装并联动，下光源[10]亦为普通电光源形成的平行光源，位于台架[12]的下面下掩膜版吸盘[8]的垂直下方。 |
