| 发明名称 |
SI TARGET MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06306596(A) |
申请公布日期 |
1994.11.01 |
| 申请号 |
JP19930120960 |
申请日期 |
1993.04.23 |
| 申请人 |
MITSUBISHI MATERIALS CORP |
发明人 |
MISHIMA TERUSHI;KIYONO AKIRA |
| 分类号 |
C23C14/34;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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