| 发明名称 |
INFRARED RAY EMISSIVITY MEASURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06295946(A) |
申请公布日期 |
1994.10.21 |
| 申请号 |
JP19930081763 |
申请日期 |
1993.04.08 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KOBAYASHI HIDE;SHIMAMURA HIDEAKI;YONEOKA YUJI;KISHIMOTO SATOSHI |
| 分类号 |
H01L21/203;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 |
主分类号 |
H01L21/203 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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