| 发明名称 |
|
| 摘要 |
<p>A polymeric halocarbon is used as an etch barrier for plasma etching in a process to make high resolution, high aspect ratio polymer patterns.</p> |
| 申请公布号 |
JPH0680631(B2) |
申请公布日期 |
1994.10.12 |
| 申请号 |
JP19840096710 |
申请日期 |
1984.05.16 |
| 申请人 |
INTAANASHONARU BIJINESU MASHIINZU CORP |
发明人 |
HIROYUKI HIRAOKA |
| 分类号 |
C23C14/12;C23F1/00;C23F1/02;G03F1/20;G03F7/09;H01L21/027;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
C23C14/12 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
