| 主权项 |
1.一种颜料用二氧化钛之制造方法,此方法包括:(a)使四氯化钛与含氧气体以蒸气相反应,反应区温度为至少800℃,压力为至少10磅/每平方寸表压,于50-100000PPM(以制造中TiOC_2C重量为基准)水蒸气及主要由铯物质所组成且铯物质之存量为8-2,000PPM(以制造中TiOC_2C重量为基准)之成核物存在下反应,以及(b)随后,回收所制得二氧化钛颜料。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中铯物质之存量为8-500PPM。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中压力为10-200PSIG,温度为800-1800℃,且铯物质的存量为8-250PPM。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中压力为10-200PSIG,温度为800-1800℃,且反应系于0.1-10重量百分比(以四氯化钛重量为准)之气态AlClC_3C存在下进行,而铯物质之存量为8-200MMP。5.根据申请专利范围第4项之方法,其中注入反应区中的间隔气体之量为5-200莫耳百分比(以四氯化钛与氧反应物为基准),且该间隔气体系选自氯、氮、二氧化碳、稀有气体以及循环气体,即,由移除二氧化钛之反应器出口处抽出的气体。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中压力为15-200PSIG。7.根据申请专利范围第2项之方法,其中压力为15-200PSIG。8.根据申请专利范围第3项之方法,其中压力为15-200PSIG。9.根据申请专利范围第4项之方法,其中压力为15-200PSIG。10.根据申请专利范围第5项之方法,其中压力为15-200PSIG。11.根据申请专利范围第1项之方法,其中压力为20-200PSIG。12.根据申请专利范围第2项之方法,其中压力为20-200PSIG。13.根据申请专利范围第3项之方法,其中压力为20-200PSIG。14.根据申请专利范围第4项之方法,其中压力为20-200PSIG。15.根据申请专利范围第5项之方法,其中压力为20-200PSIG。16.根据申请专利范围第1-15项中任一项之方法,其中反应物于反应器混合区中的滞留时间为1-16毫秒。17.根据申请专利范围第1-15项中任一项之方法,其中反应物于反应器混合区中的滞留时间为2-14毫秒。18.根据申请专利范围第1-15项中任一项之方法,其中反应物于反应器混合区中的滞留时间为3-12毫秒。19.一种颜料用二氧化钛之制造方法,此方法包括:(a)使四氯化钛与含氧气体以蒸气相反应,反应区温度为至少800℃,且反应物于反应器混合区之滞留时间为1-16毫秒,于50-100000PPM(以制造中TiOC_2C重量为基准)水蒸气及主要由铯物质所组成且铯物质之存量为8-2,000PPM(以制造中TiOC_2C重量为基准)之成核物存在下反应,以及(b)随后,回收所制得二氧化钛颜料。20.根据申请专利范围第19项之方法,其中反应物于反应器混合区中的滞留时间为2-14毫秒。21.根据申请专利范围第19项之方法,其中反应物于反应器混合区中的滞留时间为3-12毫秒。22.根据申请专利范围第19项之方法,其中TiOC_2C成核物的存量为8-500PPM。23.根据申请专利范围第19项之方法,其中温度为800-1800℃且铯物质之存量为8-250PPM。24.根据申请专利范围第19-23项中任一项之方法,其中温度为800-1800℃,且反应是于0.1-10(以四氯化钛重量为准)之气相存在下进行。25.根据申请专利范围第19-23项中任一项之方法,其中注入反应区中的间隔气体之量为5-200莫耳百分比(以四氯化钛与氧反应物为基准,温度为800-1800℃,且反应是于0.1-10(以四氯化钛重量为准)之气相存在下进行,该间隔气体系选自氯、氮、二氧化碳、稀有气体以及循环气体,即,由移除二氧化钛之反应器出口处抽出的气体 |
