| 发明名称 |
PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06224132(A) |
申请公布日期 |
1994.08.12 |
| 申请号 |
JP19930010761 |
申请日期 |
1993.01.26 |
| 申请人 |
MITSUBISHI HEAVY IND LTD |
发明人 |
MURATA MASAYOSHI;TAKEUCHI YOSHIAKI;UDA KAZUTAKA;KOJO DAIICHI |
| 分类号 |
B01J19/08;C23C16/50;C30B25/00;H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
B01J19/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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