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发明名称 FABRICATING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR940007063(B1) 申请公布日期 1994.08.04
申请号 KR19910012574 申请日期 1991.07.23
申请人 SEIKO EPSON CO., LTD. 发明人 NAMOSE, ISAMU
分类号 H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3105;H01L21/311;H01L21/3205;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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