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发明名称 Method of forming thin film of amorphous silicon by plasma CVD.
摘要
申请公布号 EP0488112(B1) 申请公布日期 1994.08.03
申请号 EP19910120065 申请日期 1991.11.25
申请人 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED;AGENCY OF INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY 发明人 MATSUDA, AKIHISA;MASHIMA, SATOSHI;TODA, MAKOTO;FUJITA, KOUJI
分类号 C23C16/505;C23C16/24;(IPC1-7):C23C16/24;C23C16/50 主分类号 C23C16/505
代理机构 代理人
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