| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR TREATING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06208991(A) |
申请公布日期 |
1994.07.26 |
| 申请号 |
JP19930019666 |
申请日期 |
1993.01.11 |
| 申请人 |
KOKUSAI ELECTRIC CO LTD |
发明人 |
IKEDA FUMIHIDE;ENDO HIROSHI;MACHIDA JUNICHI |
| 分类号 |
H01L21/324;H01L21/205;H01L21/22;H01L21/31;H01L21/677;H01L21/68;(IPC1-7):H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/324 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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