| 主权项 |
1﹒一种供冶疗多重药物抗性之药学组成物, 其包含下式化合物 其中Ar为2─,3─或4─啶基团 或为下式之基团 其中Am为经二(C1─4烷基)取代之胺基 团,且其中X为1至4之整数, a其中R1,R2及R3乃各自由氢,氯基 ,溴基,氰基,及甲氧基中所择定,或其 酸加成盐,并混合上制药载体。 2﹒根据申请专利范围第1项之组成物,其中 Ar为啶基或二乙胺基乙氧基苯基。 3﹒根据申请专利范围第1项之组成物,其中 R1为氢且其中R2及R3乃相同,并为氢 或甲氧基。 4﹒根据申请专利范围第1项之组成物,其中 Ar为2─啶基或邻位─(:乙胺基乙氧 基)苯撑。 5﹒根据申请专利范围第1项之组成物,其中 R1为氢且其中R2及R3,乃相同,并为氢 或对位─甲氧基。 6﹒根据申请专利范围第1项之组成物,其中 Ar为2─啶基,R2为氢,且R1及R2 各为对位─甲氧基者,亦即,该化合物为 1 , 1─双─(对位一甲氧基苯基)─2 ─苯基─2─(2─啶基)乙烯。 7﹒根据申请专利范围第1项之组成物,其中 Ar为邻位─二乙胺基乙氧基苯撑,且R1 ,R2及R3各为氢者,亦即该化合物为1 ,1,2─三基苯─2─(邻位─(二乙 胺基乙氧基)苯基)乙烯。 |
