ACID-SENSITIVE POLYMER AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST STRUCTURE,申请号JP19930210073-传众专利搜索

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发明名称	ACID-SENSITIVE POLYMER AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST STRUCTURE
摘要
申请公布号	JPH06184311(A)	申请公布日期	1994.07.05
申请号	JP19930210073	申请日期	1993.08.25
申请人	INTERNATL BUSINESS MACH CORP <IBM>	发明人	UIRIAMU AARU BURANSUBUORUDO;PUREMURASA JIYAGANASAN;SUTEIIBU ESU MIURA;MERUBUIN WAREN MONTOGOMERII;HAABANSU ESU SASHIYUDEBU;RATONAMU SUURIYAKUMARAN
分类号	C08G77/38;C08G77/04;C08G77/16;C08G77/18;C08L83/04;C08L83/06;G03F7/039;G03F7/075;(IPC1-7):C08G77/38	主分类号	C08G77/38
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