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2129354 9414182 PCTABS00166 La présente invention a pour objet un procédé de réalisation sur silicium, de cathodes émissives à micropointes, pour écran plat de petites dimensions, ainsi que les produits obtenus par ce procédé. Il consiste à réaliser les cathodes émissives à partir d'un substrat de base (1) monolithique en silicium formé soit d'une tranche épaisse (300 microns ou plus), soit d'une couche fine de quelques microns, déposée sur un substrat isolant (alumine ou verre), la couche de silicium étant "active" dans les deux cas. Il concerne le domaine des écrans de visualisation plats basés sur le phénomène physique de cathodoluminescence et l'émission d'électrons par effet de champ, et peut s'appliquer à tous les secteurs industriels utilisant des écrans de visualisation ou d'affichage de faibles dimensions, par exemple viseurs de camescopes, calculatrices, appareils de contrôle de tous types, véhicules, horloges et montres, etc.
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