| 主权项 |
1﹒一种如式(l)所示苯骈衍生物或其 制药容许盐: 其中R1及R4可相同或不同,各为氢或硝 基; R2及R3可为相同或不同,各为氢,卤素 ,C1─4烷基,取代以卤素之C1─4烷基, C1─4烷氧基,氰基,硝基,胺基, C1─4烷醯胺基,C1─4烷磺醯胺基, C1─4烷磺醯基或苯基─或基─磺醯基 R5及R6可为相同或不同,各为氢或 C1─4烷基; R7为羟基一C1─4烷基;可任意与苯环稠 合之C3─7环烷基或C3─7环烯基而各可任 意有一以上取代基选自C1─4烷基,羟基 ,氧基,C1─4烷氧羰基,羟亚胺基及 C1─4烷氧亚胺基;可任意与苯环稠合之 惺含1或2个N或仅含1个0之5或6员 杂环基,而可任意有一以上取代基各选自 卤素,C1─4烷基,羟基,C1─4烷氧基, 氧基,胺甲醯基,或一或二─C1─4烷胺 羰基,此可再有形成N─氧化物之氧作为 取代基; 所示之基; A1为C1─4伸烷基或羟基─C1─4伸烷基 R8为c2─4烯氧基;可任意取代一以上 选自卤素或硝基之取代基之苯基或基; 可任意与苯环稠合之仅含1或2个N或仅 含1个0之5或6员杂环基,而可任意有 一以上取代基各选自卤素,C1─4烷基羟 基,C1─4烷氧基,氧基,胺甲醯基,或 一或二C1─4烷胺羰基,此可再有形成N ─氧化物之氧化作为取代基, A2为C1─4伸烷基; R9为C1─4烷基;羟基;C1─4烷氧基; 胺基;单─或二─C1─4烷胺基;羟基─ C1─4烷胺基;苯基─或基─C1─4烷胺 基或苯基─或基─胺基;可任意取代着 一以上选自卤素或硝基之取代基之苯基或 基,可任意与苯环稠合之仅含1或2个 N或仅含1个0之5或6员杂环基,而可 任意有一以上取代基各选自卤素,C1─4 烷基,羟基,C1─4烷氧基,氧基,胺甲 醯基,或一或二─C1─4烷胺羰基,此可 再有形成N─氧化物之氮作为取代基; A3为单键;可任意被胺基或一或二 C1─4烷胺基取代之C1─4伸烷基,或C2─4 伸烯基; R10为羧基,C1─4烷基羰基,胺甲醯基 ,单─或二─C1─4烷胺羰基,可任意与 苯环稠合之仅含1或2个N或仅含1个0 之5或6员杂环基,而可任意有一以上取 代基各选自卤素,C1─4烷基,羟基, C1─4烷氧基,氧基,胺甲醯基,或一或 二C1─4烷胺羰基,此可再有形成N─氧 化物之氧作为取代基; A4为可任意取代以羟基或C1─4烷基之 C1─4伸烷基,且 R11及R12可为相同或不同,各为氢或 C1─4烷基, 但(a)当R7为羟C1─4烷基时,R5及 R6限于相同或相异之C1─4烷基, (b)当R7为─A1─R8,A1为未取代 C1─4伸烷基时,R8不为未取代苯基 (C)当R7为─A1─R8,A1为未取代 C1─4伸烷基而R8为杂环基时,R1 ,R2,R3及R4至少一个不为氢, 卤素或C1─4烷基。 2﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中 R7为N─氧化物及/或取代以C1─4烷基 之可任意与苯环稠合之含1个N之5或6 且杂环基;取代以氧之可任意与苯环稠合 之含1个N之5或sW杂环基,取代以氧 之可任意与苯环稠合之C3─7环烷基或 C3─7环烯基;─A1─R8所示之基﹒其 中A1及R8之定义如上,或─A2─C─ R9所示之基,其中A2及R9之定义如上。 3﹒如申请专利范围第1项之化合物,其中 R2及R3之一篇硝基,氰基,或卤素,两 另一者为氢或硝基,其中R8为1─氧─ 2─啶基,6─甲基─1─氧─2─ 啶基,2─氧─1─咯烷基,(1─氧 ─2─啶基)甲基,2─氧环戊基,5 ─氧─1─环戊烯─1─基,丙酮基, 醯甲基,胺中醯甲基,N─甲胺羰甲基或 N,N─二甲胺羰甲基。 4﹒如申请专利范围第3项之化合物,该化合 物为2─(3,4─=氢─2,2─二甲 基─6─硝基─2H─1,4─苯骈 ─4─基)啶N─氧化物。 5﹒如申请专利范围第3项之化合物,该化合 物为2─(6─氰基─3,4─二氢─2 ,2─二甲基─2H─1,4─苯骈 ─4─基)啶N─氧化物。 6﹒如申请专利范围第3项之化合物,该化合 物为2─(3,4─二氢─2,2─二甲 基─6─硝基─2H─1,4─苯骈 ─4─基)─6─甲基啶N─氧化物。 7﹒一种如式(Ⅱ)所示之化合物或其盐: 式中R1及R4''可相同或不同,各为氢 或硝基; R2'及R3'可为相同或不同,各为氢, 卤素,氰基或硝基; R5柔R6可相同或不同,各为氢或 C1─4烷基;取代以氧基之可任意与苯环 R7a为可任 稠合之C3─7环烷基或C3─7环烯基,或─ A2─C─R9a所示之基; A2为C1─4伸烷基; R9a为C1─4烷基,胺基,单─或二─ C1─4烷胺基,羟基─C1─4烷胺基,苯基 ─或基─烷胺基,或苯基─或基─胺 基可取代以一个以上卤素或硝基之苯基或 奈基,可任意取代以I个以上氧基及C1─4 烷基之可任意与苯环耦合之含1个N之 5或6员杂环基,(包含其N─氧化物) 但当R7a为─A2─C─R9a而R9a为胺 基或一或二C1─4烷胺基时,R5及R6相 同或相异之C1─4烷基。 8﹒如申请专利范围第7项之化合物或其盐, 式中R7a为2─氧环成基,5一氧─1─ 环戊烯─1─基,丙酮基,醯甲基,胺 甲醯甲基,N─甲胺羰甲基或N,N─二 甲胺羰甲基。 9﹒一种如式(Ⅲ)所示化合物及其盐: 其中R1;及R4A"可相同或不同,各为氢 或硝基; R2"及R3"可为相同或不同,各表为氢, 卤素,氰基或硝基; R5及R6可相同或不同,各表为氢或 C1─4烷基;且 R13为亚硝基或胺基; 但若R13为胺基时,R5及R6可相同或相 异,各C1─4烷基。 10﹒一种钾管道活化用药学组成物,其含如 申请专利范围第1项之化合物。 11 ﹒如申请专利范围第10项之药学组成物, 为狭心症,高血压,气喘或排尿困难的治 疗组成物。 12﹒一种制法,以制备下式(1c)之苯骈 衍生物或其盐: 其中包含将下式(Iv)之苯骈衍生物 与式(V)之卤化物,磺酸盐或其酯反应 其中,于式(lc),(IV)及(V)中, R1及R4可相同或不同,各为氢或硝基; R2及R3可为相同或不同,各为氢,卤素 ,C1─4烷基,取代以卤素之C1─4烷基, C1─4烷氧基,氰基,硝基,胺基, C1─4烷醯胺基,C1─4烷磺醯胺基,C1─4 烷磺环基或苯基─或基─磺醯基; R5及R6可为相同或不同,各表为氢或 C1─4烷基; R7c为可任意与苯环稠合之仅含1或2个 N或仅含1个0之5或6员杂环基,而可 任意有一以上取代基各选自卤素,C1─4 烷基,羟基,C1─4烷氧基,氧基,胺甲 醯基,或一或二C1─4烷胺羰基,此可再 有形成N─氧化物之氧作为取代基,可经 由形成环之碳原子(非杂原子)键结且可 任意含有─A1c─R8c所示之基,─A2 ─C─R9所示之基,─C─A3c─R10 所示之基及 所示之基; A1c为C1─4伸烷基; R8cC2─4烯氧基;可任意取代一以 上选自卤素或硝基之取代基之苯基或基 ,可任意与苯环稠合之仅含1或2个N或 仅含1个0之5或6员杂环基,而可任意 有一以上取代基各选自卤素,C1─4烷基 ,羟基,C1─4烷氧基,氧基,胺甲醯基 ,或─或二C1─4烷胺羰基,此可再有形 成N─氧化物之氮化作为取代基, A2为C1─4伸烷基; R9为C1─4烷基,羟基,C1─4烷氧基, 胺基,单─或二─C1─4烷胺基,苯基或 基─烷胺基,或苯基─或基─胺基; 可任意取代若一以上选自卤素与硝基之取 代基之苯基或基,可任意与苯环稠合之 仅含1或2个N或仅含1个0之5或6员 杂环基,而可任意有一以上取代基各选自 卤素,C1─4烷基,羟基,C1─4烷氧基, 氧基,胺甲醯基,或一或二C1─4烷胺叛 基,此可再有形成N─氧化物之氧作为取 代基; A3c为单键,C1─4伸烷基或C2─4伸烯基 R10为羧基,C1─4烷基羰基,胺甲醯基 ,单一或二─C1─4烷胺羰基,胺基;单 ─或二─C1─4烷胺基或可任意与苯环稠 合之仅含1或2个N或仅含1个0之5或 6员杂环基,而可任意有一以上取代基各 选自卤素﹒C1─4烷基,经基,C1─4烷氧 基,氧基,胺甲醯基,或一或二─C1─4 烷胺羰基,此可再有形成N─氧化物之氧 作为取代基; A14为氢,C1─4烷基或C1─4烷氧羰基; R15及R16可为相同或不同,各为C1─4 烷基或共为C1─4伸烷基,邻─伸苯基, 或羰基以形成环; Z1为羰基,亚甲基,或甲醇基, 但(a)当R7c为─A1e─R8e而A1c为未 取代C1─4伸烷基时,R8c不为未取代 苯基, (b)当R7c为─A1e─R8c,A1c为未 取代C1─4伸烷基而R8c为杂环基时 ,R1,R2,R3及R4至少一个不为 氢,卤素或C1─4烷基, (c)当当Z1为亚甲基而R15及R16共为 C1─4伸烷基时,R14为C1─4烷基, Y1为卤素,烷基─或苯基─或甲苯基─ 磺醯氧基,或酯残基。 13﹒一种制法,以制备式(1e)之苯骈 衍生物或其盐其中 其中包含将式(IIa─1)3─氧─4─ 取代羰烷苯骈衍生物还原: 必要时可再将所得式(1d)之合羟烷基之 苯骈衍生物氧化, 于式(1e),(Ⅱa─1)及(ld)中, R1及R4可相同或不同,各为氢或硝基; R2及R3可为相同或不同,各为氢,卤素 ,C1─4烷基,取代以卤素之C1─4烷基, C1─4烷氧基,氰基,硝基,胺基, C1─4烷醯胺基,C1─4烷磺醯胺基, C1─4烷磺醯基,或苯基─或基─磺醯 基; R5及R6可为相同或不同,各为氢或 C1─4烷基; R7a─1为─A2─c ─R9所─之基或 所示之基; A2为C1─4伸烷基; R9为C1─4烷基,羟基,C1─4烷氧基, 胺基,单─或二─C1─4烷胺基,苯基─ 或基─烷胺基,或苯基─或基─胺基 ;可任意取代一以上选自卤素与硝基之 取代基之苯基或基,可任意与苯环稠合 之仅含1或2个N或仅含1个0之5或6 员杂环基,而可任意有一以上取代基各选 自卤素,C1─4烷基,羟基,C1─4烷氧基 ,氧基,胺甲醯基,或一或二C1─4烷胺 羰基,此可再有形成N─氧化物之氧作为 取代基; A14为氢或C1─4烷基,C1─4烷氧羰基; R15及R16可 相同或不同,各为C1─4 烷基或共为C1─4伸烷基,邻─伸未基或 羰基以形成环; Y1为卤素或烷基或苯基─或基─磺醯 氧基或酯残基; A5为A2所示之基或 所示之基( 其中R14及R15之定义如上) R17为上述R9或R16所示之基。 14﹒一种制法,以制备式(lf)之苯骈 衍生物或其盐: 其中包含将式(x)之卤烷醯胺苯骈 衍生物: 进行环化作用,于式(If)及(X)中, R1及R4可相同或不同,各为氢或硝基; R2及R3可为相同或不同,各为氢,卤素 ,C1─4烷基,取代以卤素之C1─4烷基, C1─4烷氧基,氰基,硝基,胺基, C1─4烷醯胺基,C1─4烷磺醯胺基, C,─4烷磺醯基,或苯基─或基─磺醯 基; R5及R6可为相同或不同,各为氢或 C1─4烷基; R18为取代以卤素之丙基或取代以卤素之 丁基; A6为三成四亚甲基。 15﹒一种制法,以制备式(lh)之含胺羰基 之苯骈衍生物或其盐: 其中包含将式(1g)之羧酸或其反应性衍 生物: 与式(xl)之胺反应, 其中,于式(1h),(1g)及(xl)中 R1及R4可相同或不同,各为氢或硝基; R2及R3可为相同或不同,各为氢,卤素 ,C1─4烷基,取代以卤素之C1─4烷基, C1─4烷氧基,氰1基,硝基,胺基, C1─4烷醯胺基,C1─4烷磺醯胺基, C1─4烷磺醯基,或苯基─或基─磺醯 基; R5及R6可为相同或不同,各为氢或 C1─4烷基; R7为C1─4伸烷基; A3为单键,可任意被胺基或一或二 C1─4烷胺基取代之C1─4伸烷基,或C1─4 伸烯基; R19及R20可为相同或不同,各为氢或 C1─4烷基或结合以形成可任意与苯环稠 合之仅含1或2个N或仅含1个0之5或 6员杂环基,而可任意有一以上取代基各 选自卤素,C1─4烷基,羟基,C1─4烷氧 基,氧基,胺甲醯基,或一或二C1─4烷 胺羰基,此可再有形成N─氧化物之氧作 为取代基。 16﹒一种制法,以制备式(Il)之取代以N ─氧化物杂环之苯骈衍生物或其盐: 其中包含将式(li)化合物氧化 其中,于式(Ij),(Ii)中, R1及R4可相同或不同,各为氢或硝基; R2及R3可为相同或不同,各为氢,卤素 ,C1─4烷基,取代以卤素之C1─4烷基, C1─4烷氧基,氰基,硝基,胺基, C1─4烷醯胺基,C1─4烷磺醯胺基, C1─4烷磺醯基,或苯基─或基─磺醯 基; R5及R6可为相同或不同,各为氢或 C1─7烷基; A8为单键,A1所示之基,A2所示之基 ,或 ─C─A3─所示之基; A1为C1─4伸烷基或羟基─C1─4伸烷基 A2为c1─4伸烷基; A3为单键,可任意 胺基或一或二 C1─4烷胺基取代之C1─4伸烷基,或C2─4 伸烯基; 且为含1或2个氮单环或二环杂芳 基可任意取代; 但若A8为A1而A1未取代低伸烷基时 ,R1,R2﹒R3及R3之至少一个不为氢 ,卤素或C1─4烷基。 17﹒一种制法以制备 (lk)之苯骈衍 生物或其盐, 其中包含将式(IV)之N一自由态之苯骈 衍生物: 与式(Xn)二卤化物或二酮化物反应 其中,于式(Ik),(IV)及(Xn)中 R1及R4可相同或不同,各为氢或硝基; R2及R3可为相同或不同,各为氢,卤素 ,C1─4烷基,取代以卤素之C1─4烷基, C1─4烷氧基,氰基,硝基,胺基, C1─4烷醯胺基,C1─4烷磺醯胺基, C1_4烷磺醯基,或苯基─或基─磺醯 基; R5及R6可为相同或不同,各为氢或 C1─4烷基; Y2为卤素或与Y3共同表为碳基氧原子; Y3为卤素或与Y2共同表为羰基氧原子, 或当Y4为卤素时,则为氢;且 当Y2及y3皆为卤素或共为羰基氧原子时 ,Y4为氢,或当Y2为卤素且Y3为氢时 ,Y4为卤素, R14为氢或C1─4烷基或C011烷氧羰基; R15及R16可共为C1─4伸烷基或邻─伸 苯基或羰基(当Y"为卤素)U形成环。 |
