| 发明名称 |
METHOD FOR FORMATION OF CONDUCTIVE LAYER OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH06163596(A) |
申请公布日期 |
1994.06.10 |
| 申请号 |
JP19920317048 |
申请日期 |
1992.11.26 |
| 申请人 |
YOKOGAWA ELECTRIC CORP |
发明人 |
OBARA HIDEYUKI;ISHII YOSHIHISA;HORIKOSHI OSAMU;UENO TOSHIYUKI |
| 分类号 |
H01L21/20;H01L21/338;H01L29/812;(IPC1-7):H01L21/338 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
