| 发明名称 |
PRODUCTION OF SUBSTRATE FOR SILICON THIN FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06157019(A) |
申请公布日期 |
1994.06.03 |
| 申请号 |
JP19920312252 |
申请日期 |
1992.11.20 |
| 申请人 |
OSAKA GAS CO LTD |
发明人 |
IPPONMATSU MASAMICHI;ONISHI HISAO;NAKATANI KOSUKE;TABATA SOICHI;KUDO SHUZO |
| 分类号 |
C01B33/00;(IPC1-7):C01B33/00 |
主分类号 |
C01B33/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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