| 发明名称 |
Hochkontrast-Photoresist mit Polyimidpolymeren. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE3789565(D1) |
申请公布日期 |
1994.05.19 |
| 申请号 |
DE19873789565 |
申请日期 |
1987.01.29 |
| 申请人 |
HOECHST CELANESE CORP., SOMERVILLE, N.J. |
发明人 |
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| 分类号 |
G03C1/72;G03F7/004;G03F7/023;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/004 |
主分类号 |
G03C1/72 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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