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发明名称 METHOD OF SELECTIVELY DEPOSITING POLYCRYSTALLINE SI FILM
摘要
申请公布号 JPH06112128(A) 申请公布日期 1994.04.22
申请号 JP19910000639 申请日期 1991.01.08
申请人 NEC CORP 发明人 OGURA ATSUSHI
分类号 H01L21/205;H01L21/285;H01L21/3205;H01L23/52;(IPC1-7):H01L21/205;H01L21/320 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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