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发明名称 Vorrichtung zum Plasmaverfahren.
摘要
申请公布号 DE69006622(D1) 申请公布日期 1994.03.24
申请号 DE19906006622 申请日期 1990.04.18
申请人 TOKYO ELECTRON LTD., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 KOJIMA, HIROSHI, 305 GREEN-HEIM-MIDORIYAMA,1-22-1, TOKYO, JP;TAHARA, YOSHIFUMI, A202 HACHIBANCHI-CORPO 1-8-8, YAMATO-SHI, KANAGAWA-KEN, JP;ARAI, IZUMI, YOKOHAMA-SHI, JP
分类号 C23F4/00;H01J37/32;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):C23F4/00 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
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