发明名称 Antistatischer Photolack.
摘要
申请公布号 DE3788554(D1) 申请公布日期 1994.02.03
申请号 DE19873788554 申请日期 1987.10.12
申请人 MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO, JP;MITSUBISHI KASEI CORP., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 MIURA, KONOE, YOKOHAMA-SHI KANAGAWA-KEN, JP;OCHIAI, TAMEICHI, SAGAMIHARA-SHI KANAGAWA-KEN, JP;KAMEYAMA, YASUHIRO, MACHIDA-SHI TOKYO, JP;KOYAMA, TOORU C/O MITSUBISHI DENKI K.K., ITAMI-SHI HYOGO-KEN, JP;OKABE, TAKASHI C/O MITSUBISHI DENKI K.K., ITAMI-SHI HYOGO-KEN, JP;MAMETANI, TOMOHARU C/O MITSUBISHI DENKI K.K., ITAMI-SHI HYOGO-KEN, JP
分类号 G03C1/00;G03F7/004;G03F7/022;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/00 主分类号 G03C1/00
代理机构 代理人
主权项
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