| 摘要 |
<p>L'invention concerne une composition photopolymérisable contenant un composé polymérisable par addition, présentant au moins une liaison double éthyléniquement insaturée, un générateur de radicaux libres et un composé de squarylium répondant à la formule générale (I). La composition selon l'invention est extrêmement sensible aux rayons visibles et se trouvant dans le proche infrarouge, en particulier, un laser He-Ne, à une diode électroluminescente et à un laser à semiconducteur, chacun présentant une longueur d'ondes d'oscillation dépassant 600 nm. Ladite composition peut donc être utilisée en tant que matériau d'hologramme, de plaquette présensibilisée pour la fabrication directe de plaquettes par laser, de résiste sec, d'épreuve numérique, de microcapsules photosensibles, etc.</p> |
