| 发明名称 |
ESTRUCTURAS DE LIBERACION GRADUAL PARA GOMA DE MASCAR. |
| 摘要 |
SE PROPORCIONAN ESTRUCTURAS DE DESCARGA GRADUAL PARA LA LIBERACION DE AGENTES ACTIVOS EN GOMA DE MASCAR Y UN PROCESO PARA HACER TALES ESTRUCTURAS. LAS ESTRUCTURAS DE DESCARGA GRADUAL SE FORMAN MEDIANTE TECNICAS DE HILATURA DE FUSION Y CONSTAN DE UN AGENTE ACTIVO (13) DENTRO DE UNA MATRIZ DE SOPORTE (12).
|
| 申请公布号 |
ES2045906(T3) |
申请公布日期 |
1994.01.16 |
| 申请号 |
ES19900902500T |
申请日期 |
1990.01.26 |
| 申请人 |
WM. WRIGLEY JR. COMPANY |
发明人 |
SONG, JOO, HAE |
| 分类号 |
A23G4/00;A23G4/02;A23G4/10;A23G4/20;(IPC1-7):A23G3/30 |
主分类号 |
A23G4/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
