| 发明名称 |
FORMING METHOD OF POLYCRYSTALLINE SILICON MULTILAYER WIRING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH05326514(A) |
申请公布日期 |
1993.12.10 |
| 申请号 |
JP19920123030 |
申请日期 |
1992.05.15 |
| 申请人 |
FUJI FILM MICRO DEVICE KK;FUJI PHOTO FILM CO LTD |
发明人 |
OSHIBA HISASHI;HIUGA TAKAFUMI;SUZUKI HIRONOBU |
| 分类号 |
H01L23/52;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/320;H01L21/90 |
主分类号 |
H01L23/52 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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