| 摘要 |
<p>La présente invention concerne un procédé de soudage susceptible de former un film de passivation par oxyde présentant une résistance à la corrosion et une quantité d'émission extrêmement faible de gaz lors du soudage, au niveau d'une partie soudée et de parties voisines, ainsi qu'un appareil nécessitant une atmosphère ultra-haute pureté. Un gaz d'étanchéité de retour comprenant un gaz inerte renfermant 1 ppb à 50 ppm d'oxygène gazeux est amené à s'écouler pendant un processus de soudage et un film de passivation par oxide renfermant de l'oxyde de chrome comme constituant principal est formé sur la surface d'une partie soudée. Dans un appareil de mise en ÷uvre faisant appel au soudage pour son montage, un gaz d'étanchéité de retour comprenant un gaz inerte renfermant 1 ppb à 50 ppm d'oxygène gazeux est amené à s'écouler pendant un processus de soudage et un film de passivation par oxyde renfermant de l'oxyde de chrome comme constituant principal est formé sur la surface d'une partie soudée.</p> |
