首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT AND STRUCTURE THEREOF
摘要
申请公布号
JPH05315308(A)
申请公布日期
1993.11.26
申请号
JP19920094677
申请日期
1992.04.15
申请人
NEC CORP
发明人
HAYASHI YOSHIHIRO
分类号
H01L21/28;H01L21/283;H01L21/304;H01L21/3105;H01L21/3205;(IPC1-7):H01L21/304;H01L21/320
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
Procedure for optimizing the working parameters of a double controlled hydraulic turbine.
Intraocular lens injector.
Multiple surface evanescent wave sensor system.
Both-side roughened copper foil with protection film.
Thin film transistor and method for manufacturing the same.
电容器自动装配机
免笔套组合式毛笔
电梯门锁
锅式烤箱
自行车后视镜
多功能彩灯程序闪光控制器
新型流量可调式螺杆泵
离心空调机组锈渣回收处理装置
多功能自动控温装置
棉纤维清理机
屋顶卧式综合空调机
带保健药腔的笔套
一种密闭式活塞环
幼儿智力门
机动车用试电笔