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发明名称 Method for fabrication of semiconductor device
摘要
申请公布号 US5262338(A) 申请公布日期 1993.11.16
申请号 US19920850506 申请日期 1992.03.13
申请人 SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD. 发明人 FUSEGAWA, IZUMI;YAMAGISHI, HIROTOSHI;FUJIMAKI, NOBUYOSHI;KARASAWA, YUKIO
分类号 H01L21/02;H01L21/28;H01L21/322;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/265 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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