摘要 |
KUPATILA I POSTUPAK ZA HEMIJSKO POLIRANJE POVRSINA NERDJAJUCEG CELIKA, pronalazak se odnosi na kupatila za hemijsko poliranje povrsina nerdjajuceg celika koja obuhvataju, u vodenom rastvoru, smesu hlorovodonicne, azotne i fosforne kiseline, po potrebi supstituisanu hidroksibenzoevu kiselinu, abietsko jedinjenje i aditiv odabran od perhlorne kiseline i njenih u vodi rastvornih soli. Pronalazak se takodje odnosi na postupak hemijskog poliranja povrsina nerdjajuceg celika koji se vrsi u opisanim kupatilima, na temperaturi od 20 do 50°C.
|