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发明名称 Strahlungsempfindliches Material und seine Herstellung und Verwendung zur Erzeugung von Bildmustern
摘要
申请公布号 DE3836809(C2) 申请公布日期 1993.10.14
申请号 DE19883836809 申请日期 1988.10.28
申请人 HITACHI, LTD., TOKIO/TOKYO, JP;HITACHI CHEMICAL CO., LTD., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 UCHINO, SHOUICHI, HACHIOJI, JP;IWAYANAGI, TAKAO, TOKIO/TOKYO, JP;HASHIMOTO, MICHIAKI, SAYAMA, JP
分类号 G03F7/26;C08K5/23;C09D161/04;G03C1/00;G03C5/00;G03F7/00;G03F7/016;G03F7/038;G03F7/095;G03F7/11;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G03F7/095;G03F7/105 主分类号 G03F7/26
代理机构 代理人
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