首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND MANUFACTURE THEREOF
摘要
申请公布号
JPH05259012(A)
申请公布日期
1993.10.08
申请号
JP19920051212
申请日期
1992.03.10
申请人
发明人
分类号
H01L21/02;H01L21/20;H01L21/316;H01L21/318;H01L27/12;(IPC1-7):H01L21/02
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
卤氧化物光催化材料及其制备方法
一种多层滑环系统
动态物理上行控制信道资源预留与索引映射的方法及装置
用于控制压缩机的运行的装置及方法
一种网络流量确定方法、装置及网络设备
实时采集语音数据的方法、系统和媒体网关
多端口以太网接口装置及其VPN业务接入的方法
镜片制造设备
具有受阻碍的吹扫流的涡轮机
透明显示装置
加快模拟加法器响应速度的方法、模拟加法器及变压器
本安先导电路
用于识别重新部署的分布式电源组件的方法和设备
用于确定中继链路资源单元组的方法及装置
一种立体显示器
有状态路径计算单元的处理方法及有状态路径计算单元
改进的烷基化方法
人员安检系统
一种数控电解加工集成控制系统及其控制方法
多路静电释放保护器件的加工方法