Device for producing plasma using cathodic sputtering and microwave radiation.

摘要

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Erzeugen eines Plasma mittels Kathodenzerstäubung und Mikrowelleneinstrahlung. Hierbei wird an die Kathode (9) eines Magnetrons Gleich- und/oder Wechselspannung (10) angelegt und im Bereich zwischen der Kathode (9) und einem Substrat (5) eine Mikrowelle eingestrahlt. Die Einstrahlung der Mikrowelle erfolgt im Bereich des Magnetfelds (22, 23) des Magnetrons, wobei das Magnetfeld und die Mikrowelle so ausgelegt sind, daß eine Elektronenzyklotronresonanz entsteht und die Mikrowelle im Plasma absorbiert wird. <IMAGE>