| 摘要 |
<p>Bei einem Verfahren zur Erzeugung dünner, mikroporenfreier, leitender Polymerschichten mittels Plasmapolymerisation dazu geeigneter Monomere unter Ausbildung dotierter dreidimensionaler Netzwerkstrukturen wird das Dotierungsmittel in an das Monomer chemisch gebundener Form in die Plasmapolymerisation eingebracht, daraus durch Einwirkung des Plasmas unmittelbar vor der Polymerbildung freigesetzt und in die sich bildende Plasmapolymerschicht eingelagert.</p> |
