发明名称 MOS电路的保护装置
摘要 在本保护装置中,焊接区(P)与被保护的晶体管之间的电阻是采用扩展区(e)来实现的,扩展区完全处于焊接区(P)之下并沿扩展区的整个周边延伸出去。细长区(Z)沿扩展区(e)的周边延伸,通过互连通路(b)与电路地端相接,细长区(Z)与互连通路(b)之间是低阻连接。
申请公布号 CN1022148C 申请公布日期 1993.09.15
申请号 CN88108454.9 申请日期 1988.10.20
申请人 德国ITT工业股份有限公司 发明人 乌尔里克·塞里斯;伯克哈德·吉贝尔
分类号 H01L27/085;H01L23/62;H01L21/82 主分类号 H01L27/085
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人 李强
主权项 1.MOS电路(绝缘栅场效应晶体管集成电路)的保护装置,该装置位于覆盖MOS电路衬底的绝缘层上面的焊接区(P)与被保护的晶体管之间,并包含相反的其它导电类型的电阻,该电阻位于衬底中,并且把焊接区连接到晶体管的端点上,其特征在于:这个电阻是一个扩展区(e),其表面形状与焊接区(P)的形状相同,扩展区面积大于焊接区,由扩展区、最好是中心区域来支撑焊接区,并通过焊接区构成与扩展区的低阻接触;扩展区(e)至少部分边缘与具有择优最小宽度的细长区(Z、Z1、Z2)相邻,并与细长区相隔一最小间距;细长区与扩展区(e)有相同的导电类型和相同的电阻率;细长区在其表面通过与电路地端相接的互连通路(b)构成接触,在表面与互连通路b之间的连接具有低电阻。
地址 联邦德国弗赖堡