发明名称 WAFER POLISHING DEVICE
摘要
申请公布号 JPH05234969(A) 申请公布日期 1993.09.10
申请号 JP19920039218 申请日期 1992.02.26
申请人 HITACHI LTD;HITACHI TOKYO ELECTRON CO LTD 发明人 ASADA TAKAO;NANBA YUKIO
分类号 B24B7/22;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 B24B7/22
代理机构 代理人
主权项
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