发明名称 MULTILAYER WIRING STRUCTURE IN SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT
摘要
申请公布号 JPH05198691(A) 申请公布日期 1993.08.06
申请号 JP19920297166 申请日期 1992.11.06
申请人 TOSHIBA CORP;TOSHIBA MICRO ELECTRON KK 发明人 MATSUNAGA NORIAKI;IKEDA NAOKI
分类号 H01L21/768;H01L23/522 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
主权项
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