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发明名称
MULTILAYER WIRING STRUCTURE IN SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT
摘要
申请公布号
JPH05198691(A)
申请公布日期
1993.08.06
申请号
JP19920297166
申请日期
1992.11.06
申请人
TOSHIBA CORP;TOSHIBA MICRO ELECTRON KK
发明人
MATSUNAGA NORIAKI;IKEDA NAOKI
分类号
H01L21/768;H01L23/522
主分类号
H01L21/768
代理机构
代理人
主权项
地址
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