PHOTOACOUSTIC CONTROL OF A PULSED LIGHT MATERIAL REMOVAL PROCESS

摘要

Un procédé et un système automatiques permettent d'enlever une ou plusieurs couches (16, 18) d'une matière d'un substrat (20). Le substrat est irradié par un faisceau lumineux (12) d'une intensité suffisante pour ôter les matières afin d'exposer des régions choisies du substrat. La matière enlevée produit des signaux de signature photoacoustiques (22). La structure est balayée par le faisceau lumineux le long d'une trajectoire prédéterminée à une vitesse de balayage; les signaux de signature photoacoustiques sont détectés le long de la trajectoire de balayage, et une vitesse de balayage remise à jour, associée de manière fonctionnelle aux signaux photoacoustiques détectés est déterminée. Selon un mode de réalisation de l'invention, une couche choisie d'une structure à plusieurs couches est exposée par un procédé selon lequel on irradie la surface de la structure en comparant des représentations de signaux d'ondes de compression photoacoustiques avec une valeur de référence correspondant à un signal de signature photoacoustique d'une couche de la structure devant être exposée.