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发明名称 SPUTTER DEPOSITION
摘要 A method of sputter deposition onto an organic material, wherein the discharge gas of the sputtering operation is a gas having a spectrum of light emission of a lower energy than that of argon.
申请公布号 WO9928521(A1) 申请公布日期 1999.06.10
申请号 WO1998GB03489 申请日期 1998.11.20
申请人 CAMBRIDGE DISPLAY TECHNOLOGY LTD.;HEEKS, STEPHEN, KARL;CARTER, JULIAN 发明人 HEEKS, STEPHEN, KARL;CARTER, JULIAN
分类号 C23C14/20;H01L51/00;H01L51/40;H01L51/52;H05B33/10;(IPC1-7):C23C14/20;H01L51/20;H05B33/14 主分类号 C23C14/20
代理机构 代理人
主权项
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