| 摘要 |
Zur Vermeidung einer Verschlechterung der Oberflächeneigenschaften von Gegenständen aus Keramik, Glas oder einem einkristallinen Isoliermaterial, die einem Temperaturprozeß in Vakuum unterzogen werden, wird auf die Gegenstände davor eine dünne Schicht aus einer Spin-On-Glas-Lösung mit einem Siliciumdioxid-Äquivalent von höchstens 10% durch Schleudern oder Sprühen aufgebracht und getrocknet. Dies ist besonders wichtig zur Vermeidung der starken Feuchteabhängigkeit von kapazitiven oder resistiven Drucksensoren (10, 10') mit einem Grundkörper (12, 12') und einer Membran (11, 11'), die unter Bildung einer mindestens am Rand dicht abgeschlossenen Kammer (13, 13') zusammenzufügen sind. Dabei wird die Membran (11, 11') mit einer als die eine Kondensator-Elektrode (14) dienenden Schicht aus Siliciumkarbid, Niob oder Tantal oder im Bereich, der später innerhalb der Kammer (13, 13') liegt, mit mindestens einem Dehnmeßstreifen (24) beschichtet; wird der Grundkörper (12, 12') im Bereich, der später innerhalb der Kammer liegt, mit mindestens einer weiteren Kondensator-Elektrode (15) beschichtet oder im Falle eines resistiven Drucksensors nicht damit beschichtet; wird auf die jeweilige gesamte, mit dieser Beschichtung versehene Oberfläche von Grundkörper und Membran eine dünne Schicht (23, 23') aus der Spin-On-Glas-Lösung aufgebracht und getrocknet; werden die Kondensator-Elektroden bzw. Dehnmeßstreifen durch Grundkörper und/oder Membran hindurch kontaktiert und werden diese mittels eines zugleich als Abstandshalter dienenden ringförmigen Formteils (20, 20') aus Aktivhartlot oder mittels einer ausreichenden Menge einer Aktivhartlotpaste verlötet. <IMAGE> |
