发明名称 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE, AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD
摘要 본원 발명에 의해 제공되는 화학 증착 장치는, 피성막물이 수용되는 반응 용기와, 상기 반응 용기 내에 형성된 가스 공급관 (5) 과, 상기 반응 용기 내에서 가스 공급관 (5) 을 회전축 (22) 둘레로 회전시키는 회전 구동 장치 (2) 를 갖고, 상기 가스 공급관 (5) 의 내부는, 상기 회전축 (22) 을 따라 연장되는 제 1 가스 유통부 (14) 와 제 2 가스 유통부 (15) 로 구획되고, 상기 가스 공급관 (5) 의 관벽에는, 상기 제 1 가스 유통부 (14) 에 유통하는 제 1 가스를 상기 반응 용기 내에 분출시키는 제 1 가스 분출구 (16) 와, 상기 제 2 가스 유통부 (15) 에 유통하는 제 2 가스를 상기 반응 용기 내에 분출시키는 제 2 가스 분출구 (17) 가, 상기 회전축 (22) 의 둘레 방향으로 이웃하여 배치되고, 상기 회전축 (22) 을 법선으로 하는 평면 (23) 에 있어서, 상기 제 1 가스 분출구 (16) 와, 상기 복수의 제 2 가스 분출구 (17) 는 쌍을 형성한다.
申请公布号 KR20160106598(A) 申请公布日期 2016.09.12
申请号 KR20167018286 申请日期 2015.01.09
申请人 MITSUBISHI MATERIALS CORP. 发明人 TATSUOKA SHO;YAMAGUCHI KENJI
分类号 C23C16/455 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人
主权项
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