| 摘要 |
<p>Eine Belichtungsvorrichtung für die Direktbelichtung von lichtempfindlichen Schichten hat eine Lichtquelle (2) und einen Mustergenerator (3). Der Mustergenerator (3) hat ein optisches Schlierensystem (14) und einen aktiven, Matrix-adressierbaren Flächenlichtmodulator (13). Das Schlierensystem (14) hat ein Schlierenobjektiv (15) und ein Projektionsobjektiv (16) und eine zwischen diesen Objektiven angeordnete Spiegelvorrichtung (17), die Licht von der Lichtquelle (2) auf die Oberfläche (19) des Flächenlichtmodulators (13) richtet. Eine Filtervorrichtung (17, 17b) dient zum Herausfiltern von gebeugtem Licht und zum Durchlassen von ungebeugtem Licht von dem Flächenlichtmodulator (13) zu dem Projektionsobjektiv (16). Die zu belichtende Struktur ist auf einem verfahrbaren Positioniertisch (7) festgelegt. Der Flächenlichtmodulator (13) wird derart adressiert, daß dessen nicht-adressierte Oberflächenbereiche (19a, 19b, ...) den zu belichtenden Projektionsbereichen der Struktur entsprechen.</p> |
