发明名称 Process for securing disc or plate like target materials to cooled backing members for cathodic sputtering devices.
摘要 In Aufstäubanlagen (Sputter-Anlagen) ist das zu verstäubende Material auf wassergekühlten Tellern als Scheibe (1) oder Platte (3) aufgebracht. Es ist schwierig, das meist unlötbare Targetmaterial mit den Kühltellern (2, 4) haftfest zu verbinden. Außerdem soll ein guter Wärmekontakt vorhanden sein. Dieses Problem wird mit dem erfindungsgemäßen Verfahren in einfacher Weise dadurch gelöst, daß die Targetmaterialien (1, 2) mittels Plasmaspritzen mit einer lötbaren Schicht über eine dem Targetmaterial angepaßte Haftschicht lötbar beschichtet und anschließend mit dem Kühlteller (2, 4) weichgelötet werden.
申请公布号 EP0024355(A1) 申请公布日期 1981.03.04
申请号 EP19800104911 申请日期 1980.08.18
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND MUNCHEN 发明人 LAUTERBACH, RICHARD;KELLER, HARTMUT, DIPL.-ING.
分类号 B23K35/00;C23C14/34;(IPC1-7):23C15/00;23K35/00 主分类号 B23K35/00
代理机构 代理人
主权项
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