发明名称 新的噻唑基苯并呋喃衍生物,其制备方法及含该衍生物的药物组合物
摘要 本发明是关于新的通式(I)的噻唑基苯并呋喃衍生物及其药物上可接受的盐。更具体地说,它是关于具有白三烯及过敏性慢性反应物质(下文SRS-A)拮抗剂或抑制剂,关于其制备方法,关于含有该衍生物的药物组合物,及采用同样衍生物预防和/或治疗人或动物过敏或炎症的治疗方法。其中R<SUP>1</SUP>,R<SUP>2</SUP>,R<SUP>3</SUP>,R<SUP>4</SUP>,A,X及Y,如上文中所定义。
申请公布号 CN1070910A 申请公布日期 1993.04.14
申请号 CN92110877.X 申请日期 1992.08.15
申请人 藤泽药品工业株式会社 发明人 松尾昌昭;奥村和央;重永信次;松田博
分类号 C07D417/04;C07D513/04;A61K31/395;//(C07D417/04,277:22,307:78) 主分类号 C07D417/04
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 王其灏
主权项 1、通式化合物及其药物上可接受的盐:<img file="92110877X_IMG2.GIF" wi="1381" he="400" />其中R<sup>1</sup>是可选择性地由卤素、低级烷基氨基或低级烷基(酰)氨基取代的低级烷基;环(低级)烷基;三环烷基;选择性地由低级烷氧基取代的芳基;或杂环基;R<sup>2</sup>是氢或卤素,或R<sup>1</sup>及R<sup>2</sup>与相邻原子结合一起形成环链烯烃环或选择性地由酰基取代的含氮杂环基,R<sup>3</sup>是氢,卤素,羟基,低级烷基或低级烷氧基,R<sup>4</sup>是氢;酰基;氰基;选择性地由羟(低级)烷基,卤(低级)烷基,氰(低级)烷基,杂环(低级)烷基或酰基取代的芳基,或者是取代基取代的低级烷基,这些取代基选自卤素,氰基,羟基、低级烷基磺酰基氧,芳基磺酰基氧,酰基,酰基(低级)烷硫基及选择性地由卤(低级)烷基,氰基(低级)烷基,杂环(低级)烷基,氰基,酰基,酰基(低级)烷基,杂环基或(低级烷基亚磺酰基)(低级烷硫基)低级链烯基取代的芳基;A是低级亚烷基,低级亚链烯基或单键,X是单键,O或S,及Y是O或S,假如A是低级亚烷基或低级亚链烯基,或者当R<sup>1</sup>为低级烷基或芳基及R<sup>2</sup>是氢时,X为O或S。
地址 日本大阪府