| 发明名称 |
ETCHING METHOD FOR METAL THIN FILM MAINLY COMPOSED OF ALUMINUM, AND MANUFACTURE OF THIN FILM TRANSISTOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0582505(A) |
申请公布日期 |
1993.04.02 |
| 申请号 |
JP19910243090 |
申请日期 |
1991.09.24 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD |
发明人 |
TSUTSU HIROSHI |
| 分类号 |
H01L21/28;C23F1/20;H01L21/308;H01L21/3213;H01L21/336;H01L29/78;H01L29/786 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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