首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
OBLIQUE ETCHING METHOD
摘要
申请公布号
JPH0529283(A)
申请公布日期
1993.02.05
申请号
JP19910206299
申请日期
1991.07.23
申请人
SONY CORP
发明人
SHINOHARA KEIJI
分类号
H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/76
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
DRILL
MARK SPACE MODULATION CIRCUIT
SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT
FREQUENCY REGULATOR OF CRYSTAL OSCILLATOR
FALSE PULSE GENERATOR
TWO TERMINAL SWITCH ELEMENT
OPERATION SELECTION CIRCUIT FOR DIGITAL RECEIVER WITH CLOCK
LIQUID CRYSTAL INDICATOR
WERKWIJZE VOOR DE VERVAARDIGING VAN LICHTGELEIDENDE VEZELS VOOR HET OVERDRAGEN VAN INFORMATIES.
FREMGANGSMAATE VED FREMSTILLING AV DOBBELTGLASS FOR INNSETNING I VINDUER
VIDEO SIGNAL CORRECTOR
DISPOSAL OF WASTE SULFIDE SOLUTION CONTAINING ORGANIC SUBSTANCE
BAY SEAWATER METABOLISM METHOD AND ITS DEVICE
BUILDING ENLARGEMENT CONSTRUCTING METHOD
METALIZACJA NA PODLOZU PCW
SPOSOB OTRZYMYWANIA FILTRU PRZEPUSZCZAJACEGO SWIATLO I ODBIJAJACEGO PROMIENIOWANIE PODCZERWONE
TENSOMETRYCZNY CZUJNIK PREDKOSCI I NATEZENIA PRZEPLYWU CIECZY LUB GAZU
NAPED PRZENOSNIKOW WALKOWYCH NA ODCINKACH LUKOWYCH
UKLAD ELEKTRYCZNY OGRANICZAJACY CZAS TRWANIA IMPULSU STRZALOWEGO
PRZYRZAD DO POMIARU TEMPERATURY OTOCZENIA,ZWLASZCZA W POMIESZCZENIACH GORACYCH