| 发明名称 |
MANUFACTURE OF GAAS ELEMENT HAVING HIGH PURITY LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0529235(A) |
申请公布日期 |
1993.02.05 |
| 申请号 |
JP19910180962 |
申请日期 |
1991.07.22 |
| 申请人 |
SUKEGAWA TOKUZO;KIMURA MASAKAZU;YAZAKI CORP |
发明人 |
SUKEGAWA TOKUZO;KIMURA MASAKAZU |
| 分类号 |
H01L21/20;H01L21/208;H01L29/80;H01L31/10 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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