| 摘要 |
Dans un procédé pour la commande d'une installation de traitement des pièces par jet de plasma, l'installation comporte une source de courant continu produisant une tension de décharge lumineuse V, source qui comprend, d'une part, un dispositif de réglage de la valeur de la tension de décharge lumineuse V et, d'autre part, un dispositif de commutation permettant d'interrompre périodiquement la tension de décharge lumineuse V selon différents rapports impulsion-pause. L'installlation comporte également un capteur mesurant la température des pièces, relié au dispositif de réglage de telle manière que la tension de décharge lumineuse V soit réglée à une valeur élevée lorsque la température mesurée est inférieure à une température de traitement déterminée et que cette même température soit diminuée lorsque la température mesurée est supérieure à la température de traitement. La tension de décharge lumineuse V est controllée de telle manière que lorsqu'elle devient inférieure à une valeur plancher, le rapport impulsion-pause de la tension de décharge lumineuse V soit diminué. Lorsqu'elle devient supérieure à une valeur plafond, le rapport impulsion-pause est augmenté. |
