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La presente invención se refiere a un método para formar un diseño en relieve en la superficie lisa de un substrato duro, caracterizado porque comprende los pasos de: (a) separar la capa de desprendimiento de polietileno de una hoja laminada de material fotorresistente de película seca; (b) aplicar las capas restantes del material fotorresistente de película seca, a la temperatura ambiente, a la superficie lisa del substrato duro, con la capa de fotopolímero del material fotorresistente de película seca directamente en contacto con la superficie lisa; (c) colocar un negativo del diseño encima de la superficie lisa, revestida con el material fotorresistente de película seca; teniendo el negativo áreas oscuras y transparentes, (d) exponer el material fotorresistente de película seca a través de las áreas transparentes del negativo, a una intensidad de luz ultravioleta durante un tiempo sólo suficiente para colocar el diseño sobre el material fotorresistente de película seca, polimerizando solamente la superficie de la capa de fotopolímero; (e) retirar la capa protectora de poliéster del material fotorresistente de película seca, dejando la capa de fotopolímero sobre el substrato; (f) eliminar de la superficie lisa una porción de la capa de fotopolímero en la forma del diseño, rociando la capa de fotopolímero con una solución reveladora para eliminar las porciones de la capa de fotopolímero que estaban detrás de las áreas oscuras del negativo, durante la exposición; (g) eliminar la superficie lisa del substrato duro, a una profundidad deseada, sobre el área de la superficie lisa en donde se ha quitado la capa de fotopolímero; y (h) retirar la porción restante de la capa de fotopolímero.
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