| 发明名称 |
ETCHANT FOR WET CHEMICAL METHOD IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04302428(A) |
申请公布日期 |
1992.10.26 |
| 申请号 |
JP19920007779 |
申请日期 |
1992.01.20 |
| 申请人 |
RIEDEL DE HAEN AG |
发明人 |
YOHAHIMU RAIFUERUSU;UORUFUGANGU JIIBERUTO |
| 分类号 |
H01L21/308;C23F1/20;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/3213 |
主分类号 |
H01L21/308 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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